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SK 海力士創(chuàng)新的半導(dǎo)體CMP拋光墊技術(shù)實(shí)現(xiàn)了永續(xù)利用

Dec 28, 2023 pm 11:04 PM
半導(dǎo)體 海力士 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)

本站12 月27 日消息,根據(jù)韓媒ETNews 報(bào)道,SK 海力士近日研發(fā)出了可重複使用的CMP 拋光墊技術(shù),不僅可以降低成本,而且可以增強(qiáng)ESG(環(huán)境、社會(huì)、治理)管理。

SK 海力士表示,他們將首先在低風(fēng)險(xiǎn)製程中部署可重複使用的CMP 拋光墊,並逐步擴(kuò)大其應(yīng)用範(fàn)圍

本站註:CMP 技術(shù)是使被拋光材料在化學(xué)和機(jī)械的共同作用下,材料表面達(dá)到所要求的平整度的一個(gè)製程。拋光液中的化學(xué)成分與材料表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),形成易拋光的軟化層,拋光墊和拋光液中的研磨顆粒對(duì)材料表面進(jìn)行物理機(jī)械拋光將軟化層除去。

SK 海力士開發(fā)出可重復(fù)使用的半導(dǎo)體 CMP 拋光墊技術(shù)
圖源:鼎龍股

在CMP製程中,拋光墊的主要作用有:

  • 為了實(shí)現(xiàn)拋光液的均勻分佈到整個(gè)加工區(qū)域,並提供新的補(bǔ)充拋光液進(jìn)行循環(huán),需要進(jìn)行以下操作:

  • 清除由於拋光過程產(chǎn)生的工件表面上的殘留物,例如拋光碎屑、碎片等

  • 傳遞材料時(shí)需要消除所需的機(jī)械載荷;

######################## #維持拋光過程所需的機(jī)械和化學(xué)環(huán)境是十分重要的。除了拋光墊的力學(xué)特性外,表面的結(jié)構(gòu)特徵也會(huì)對(duì)拋光效率和平整度產(chǎn)生影響。例如微孔的形狀、孔隙率以及溝槽的形狀等,會(huì)影響拋光液的流動(dòng)和分佈情況############SK海力士採用CMP拋光墊錶盤紋理重建方法,以確保拋光墊可以重複利用######韓國大約有70%的CMP拋光墊採用國外產(chǎn)品,並且高度依賴國外。然而,透過突破這項(xiàng)技術(shù),可以促進(jìn)韓國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的進(jìn)一步自主發(fā)展###

以上是SK 海力士創(chuàng)新的半導(dǎo)體CMP拋光墊技術(shù)實(shí)現(xiàn)了永續(xù)利用的詳細(xì)內(nèi)容。更多資訊請(qǐng)關(guān)注PHP中文網(wǎng)其他相關(guān)文章!

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