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英特爾透露節(jié)點(diǎn)演化版本效能指標(biāo):每次 PPA 提升不超過 10%

Feb 22, 2024 pm 04:58 PM
晶片 半導(dǎo)體 英特爾

IT 之家 2 月 22 日消息,英特爾在 IFS Direct Connect 活動上透露了其未來節(jié)點(diǎn)演化版本效能指標(biāo):每次的 PPA 提升不超過 10%。

IT 之家註:PPA 即 Power / Performance / Area,功耗、效能、面積(邏輯密度),三者整體被用作先進(jìn)製程的效能判據(jù)。

英特爾已確認(rèn)未來將推出演化版本,將使用「P」、「T」和「E」後綴來區(qū)分這些版本,分別代表「效能提升」、「用於3D 堆疊的矽通孔技術(shù)”和“功能擴(kuò)展”。這項(xiàng)措施將為用戶提供更多選擇,滿足不同需求。

英特爾透露節(jié)點(diǎn)演化版本性能指標(biāo):每次 PPA 提升不超過 10%
▲?英特爾代工:導(dǎo)程路線圖

Anandtech報(bào)告指出,「P」演進(jìn)版本的每瓦效能提升為5-10%;而在英特爾引進(jìn)新功能的「E」演進(jìn)版本上,也會有一定程度的改進(jìn),但幅度不會超過5%。

Anandtech 也提到,對於每瓦效能超過 10% 的改進(jìn),英特爾將使用獨(dú)立的主要製程節(jié)點(diǎn)進(jìn)行稱呼。

根據(jù)德國媒體HardwareLuxx編輯Andreas Schilling的報(bào)導(dǎo),英特爾CEO帕特·蓋爾辛格表示,未來的「P」和「E」演進(jìn)版本將在功耗性能面積(PPA)方面提升5%以上。此外,針對英特爾的7納米、4納米、3納米、20A和18A這幾個(gè)主要製程節(jié)點(diǎn),每一步的PPA提升將達(dá)到14%至15%。

綜合外媒Anandtech 和科技博客More Than Moore 以往報(bào)道中的資料,臺積電近期演化版本節(jié)點(diǎn)的提升也大致落在這一水平,相關(guān)資訊整理如下以供參考(?指未知,-指不變):


#N5->N5P N5->N5HPC N4->N4P N4P->N4X N3->N3E
#功耗(減少) 10% #? - ?
效能(提升) 5% 7% 6% ≥4% 5%
面積(縮?。?/td> - - - # ? -

除了這些常規(guī)工藝節(jié)點(diǎn),英特爾還將為客戶提供更豐富的選擇:英特爾代工負(fù)責(zé)人斯圖爾特?潘(Stu Pann )在於IFS Direct Connect 活動前夕接受外媒Tom's?Hardware 採訪時(shí)表示,願(yuàn)與EDA 合作夥伴一起,為客戶開發(fā)類似英偉達(dá)4N(基於臺積電5nm 製程)的客製化節(jié)點(diǎn)

以上是英特爾透露節(jié)點(diǎn)演化版本效能指標(biāo):每次 PPA 提升不超過 10%的詳細(xì)內(nèi)容。更多資訊請關(guān)注PHP中文網(wǎng)其他相關(guān)文章!

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