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三星計(jì)劃投資10兆韓元用於半導(dǎo)體設(shè)備並大量採(cǎi)購(gòu)ASML EUV微影機(jī)

Nov 15, 2023 pm 12:33 PM
光刻機(jī) 三星 半導(dǎo)體 asml

三星計(jì)劃增加進(jìn)口更多ASML極紫外線(EUV)光刻設(shè)備,這是根據(jù)韓國(guó)今日電子新聞的報(bào)道

三星計(jì)劃投資10萬億韓元用于半導(dǎo)體設(shè)備并大量采購(gòu)ASML EUV光刻機(jī)
##儘管合約中的保密條款並未透露具體細(xì)節(jié),但根據(jù)證券市場(chǎng)的消息,本協(xié)議將使得ASML在五年內(nèi)提供總共50套設(shè)備,每臺(tái)設(shè)備的單價(jià)約為2000億韓元(約11.02億元) ,總價(jià)值可達(dá)10兆韓元(約551億元人民幣)

目前尚不清楚其合約中的產(chǎn)品是現(xiàn)有EUV 光刻設(shè)備還是下一代「High NA EUV」光刻設(shè)備。不過,目前 EUV 微影設(shè)備最大的問題是產(chǎn)量有限。根據(jù)官方介紹,它“比衛(wèi)星部件還複雜”,每年只能生產(chǎn)很有限的數(shù)量。據(jù)說去年是 40 臺(tái),今年 ASML 估計(jì)是 60 臺(tái)。而目前需要且能購(gòu)買到 EUV 微影設(shè)備的廠商有五家:三星電子、臺(tái)積電、英特爾、SK 海力士和美光。其中,臺(tái)積電約佔(zhàn)供應(yīng)量的 70%,剩下四家公司爭(zhēng)奪剩下的 30%。

三星電子於去年6 月推出了全球首個(gè)採(cǎi)用全閘極(GAA)技術(shù)的3nm 代工技術(shù),因此該公司一直在努力確保採(cǎi)購(gòu)更多?EUV 光刻設(shè)備,目標(biāo)是在明年上半年進(jìn)入3nm 世代的第二代工藝,在2025 年進(jìn)入2nm 工藝,在2027 年進(jìn)入1.4nm 工藝。

因此,李在鎔董事長(zhǎng)去年六月前往ASML總部,與執(zhí)行長(zhǎng)Peter Bennink討論了EUV採(cǎi)購(gòu)問題。在去年十一月訪問韓國(guó)期間,他與Bennink進(jìn)一步會(huì)談??紤]到EUV的交付週期至少需要一年,這些會(huì)議似乎取得了實(shí)際成果

實(shí)際上,半導(dǎo)體領(lǐng)域分析師也對(duì)三星電子增購(gòu) EUV 光刻設(shè)備的計(jì)劃持積極態(tài)度。

祥明大學(xué)系統(tǒng)半導(dǎo)體工程教授李鍾煥表示:「三星已經(jīng)引進(jìn)了數(shù)十臺(tái)EUV光刻設(shè)備,據(jù)說每臺(tái)設(shè)備的成本約為2000億韓元,這表明該公司有意擴(kuò)大3nm晶片的量產(chǎn),並計(jì)劃在未來實(shí)現(xiàn)2nm的生產(chǎn)?!?p>

三星電子之前宣布計(jì)劃到2025年擁有100臺(tái)EUV光刻機(jī)。市場(chǎng)估計(jì)目前三星擁有約40臺(tái)EUV機(jī)器。如果這50臺(tái)設(shè)備能夠如期交付,那麼到2028年,三星將能夠擁有約100臺(tái)設(shè)備

荷蘭應(yīng)用科學(xué)研究所(TNO)的韓國(guó)代表樸炳勳解釋道:「一般情況下,半導(dǎo)體工藝可以將每臺(tái)機(jī)器的10%用於製程研發(fā)和測(cè)試,擁有100臺(tái)機(jī)器意味著它們可以全天候用於研發(fā)。」

他還指出,「透過這樣做,我們將能夠確保有足夠的製程能力來正確使用設(shè)備”,他補(bǔ)充說,“ 預(yù)計(jì)這將減少製程過程中的時(shí)間和成本,並提高產(chǎn)量?!?p>

“一旦我們擁有了大量的(EUV)設(shè)備,並且技術(shù)趨於穩(wěn)定,我們將能夠提高產(chǎn)量,並在代工方面取得進(jìn)展” ,工業(yè)研究所的專家研究員金陽邦(Kim Yang-pang)說。

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以上是三星計(jì)劃投資10兆韓元用於半導(dǎo)體設(shè)備並大量採(cǎi)購(gòu)ASML EUV微影機(jī)的詳細(xì)內(nèi)容。更多資訊請(qǐng)關(guān)注PHP中文網(wǎng)其他相關(guān)文章!

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