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三星計(jì)劃投資10萬億韓元用于半導(dǎo)體設(shè)備并大量采購ASML EUV光刻機(jī)

Nov 15, 2023 pm 12:33 PM
光刻機(jī) 三星 半導(dǎo)體 asml

三星計(jì)劃增加進(jìn)口更多ASML極紫外(EUV)光刻設(shè)備,這是根據(jù)韓國今日電子新聞的報(bào)道

三星計(jì)劃投資10萬億韓元用于半導(dǎo)體設(shè)備并大量采購ASML EUV光刻機(jī)

盡管合同中的保密條款沒有透露具體細(xì)節(jié),但根據(jù)證券市場的消息,這項(xiàng)協(xié)議將使得ASML在五年內(nèi)提供總共50套設(shè)備,每臺設(shè)備的單價(jià)約為2000億韓元(約合11.02億元人民幣),總價(jià)值可達(dá)10萬億韓元(約合551億元人民幣)

目前尚不清楚其合同中的產(chǎn)品是現(xiàn)有 EUV 光刻設(shè)備還是下一代“High NA EUV”光刻設(shè)備。不過,目前 EUV 光刻設(shè)備最大的問題是產(chǎn)量有限。據(jù)官方介紹,它“比衛(wèi)星部件還復(fù)雜”,每年只能生產(chǎn)很有限的數(shù)量。據(jù)說去年是 40 臺,今年 ASML 估計(jì)是 60 臺。而目前需要且能購買到 EUV 光刻設(shè)備的廠商有五家:三星電子、臺積電、英特爾、SK 海力士和美光。其中,臺積電約占供應(yīng)量的 70%,剩下四家公司爭奪剩下的 30%。

三星電子于去年 6 月推出了全球首個(gè)采用全柵極(GAA)技術(shù)的 3nm 代工技術(shù),因此該公司一直在努力確保采購更多?EUV 光刻設(shè)備,目標(biāo)是在明年上半年進(jìn)入 3nm 世代的第二代工藝,在 2025 年進(jìn)入 2nm 工藝,在 2027 年進(jìn)入 1.4nm 工藝。

因此,李在镕董事長去年六月前往ASML總部,與首席執(zhí)行官Peter Bennink討論了EUV采購問題。在去年十一月訪問韓國期間,他與Bennink進(jìn)一步會談。考慮到EUV的交付周期至少需要一年,這些會議似乎取得了實(shí)際成果

實(shí)際上,半導(dǎo)體領(lǐng)域分析師也對三星電子增購 EUV 光刻設(shè)備的計(jì)劃持積極態(tài)度。

祥明大學(xué)系統(tǒng)半導(dǎo)體工程教授李鐘煥表示:“三星已經(jīng)引進(jìn)了數(shù)十臺EUV光刻設(shè)備,據(jù)說每臺設(shè)備的成本約為2000億韓元,這表明該公司有意擴(kuò)大3nm芯片的量產(chǎn),并計(jì)劃在未來實(shí)現(xiàn)2nm的生產(chǎn)。”

三星電子之前宣布計(jì)劃到2025年擁有100臺EUV光刻機(jī)。市場估計(jì)目前三星擁有約40臺EUV機(jī)器。如果這50臺設(shè)備能夠如期交付,那么到2028年,三星將能夠擁有約100臺設(shè)備

荷蘭應(yīng)用科學(xué)研究所(TNO)的韓國代表樸炳勛解釋道:“一般情況下,半導(dǎo)體工藝可以將每臺機(jī)器的10%用于工藝研發(fā)和測試,擁有100臺機(jī)器意味著它們可以全天候用于研發(fā)。”

他還指出,“通過這樣做,我們將能夠確保有足夠的工藝能力來正確使用設(shè)備”,他補(bǔ)充說,“ 預(yù)計(jì)這將減少工藝過程中的時(shí)間和成本,并提高產(chǎn)量?!?/p>

“一旦我們擁有了大量的(EUV)設(shè)備,并且技術(shù)趨于穩(wěn)定,我們將能夠提高產(chǎn)量,并在代工方面取得進(jìn)展” ,工業(yè)研究所的專家研究員金陽邦(Kim Yang-pang)說。

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